企业简介
沈阳芯源微电子设备有限公司 main business:集成电路的生产设备和测试设备及其他电子设备的开发研制、生产与销售，承接相关设备安装工程、技术服务；自营和代理各类商品和技术的进出口业务（国家限定公司经营或禁止进出口的业务除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动。） and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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沈阳芯源微电子设备有限公司的工商信息
- 210132000008297
- 9121011274273568XC
- 存续（在营、开业、在册）
- 其他有限责任公司
- 2002年12月17日
- 宗润福
- 6300.000000
- 2002年12月17日 至 2037年12月16日
- 沈阳市浑南区市场监督管理局
- 2018年06月19日
- 沈阳市浑南新区飞云路16号
- 集成电路的生产设备和测试设备及其他电子设备的开发研制、生产与销售，承接相关设备安装工程、技术服务；自营和代理各类商品和技术的进出口业务（国家限定公司经营或禁止进出口的业务除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动。）
沈阳芯源微电子设备有限公司的域名
| 类型 | 名称 | 网址 |
| 网站 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | http://www.kingsemi.com/ |
| 网站 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | www.kingsemi.com |
沈阳芯源微电子设备有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 3596948 |  |
SIAYUAN | 2003-06-17 | 离心机；泵(机器)；气动传送装置；传动装置(机器)；工业用拣选机；过滤机；静电工业设备；电子工业设备；印刷电路板处理机；光学冷加工设备 | 查看详情 |
| 2 | 5928651 |  |
芯源科技;SOLIDTOOL | 2007-03-02 | 电子工业设备；印刷电路板处理机 | 查看详情 |
| 3 | 3596949 |  |
晶芯;KINGSEMI | 2003-06-17 | 离心机；泵(机器)；气动传送装置；传动装置(机器)；工业用拣选机；过滤机；静电工业设备；电子工业设备；印刷电路板处理机；光学冷加工设备 | 查看详情 |
| 4 | 14642973 |  |
芯源 KINGSEMI | 2014-07-01 | 静电工业设备；电子工业设备；印刷电路板处理机；光学冷加工设备；离心机；气动传送装置；泵（机器）；清洗设备；过滤机；工业用拣选机； | 查看详情 |
| 5 | 15732200 |  |
KINGSEMI | 2014-11-18 | 静电工业设备;电子工业设备;印刷电路板处理机;光学冷加工设备;泵（机器）;气动传送装置;离心机;清洗设备;工业用拣选机;过滤机; | 查看详情 |
| 6 | 15732224 |  |
芯源 KINGSEMI | 2014-11-18 | 静电工业设备;电子工业设备;印刷电路板处理机;光学冷加工设备;离心机;泵（机器）;气动传送装置;清洗设备;工业用拣选机;过滤机; | 查看详情 |
沈阳芯源微电子设备有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN103811297B | 一种化学液供给装置 | 2016.09.28 | 本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种化学液供给装置，包括供液桶、补液桶、电磁阀、药液 |
| 2 | CN103792790B | 光刻胶与显影液的恒温控制系统 | 2016.09.14 | 本发明涉及IC及LED行业，具体地说是一种光刻胶与显影液的恒温控制系统。包括恒温水控制装置、双层套管 |
| 3 | CN101377686A | 智能热盘温度控制器及其温度控制方法 | 2009.03.04 | 本发明涉及一种智能热盘温度控制器及其控制方法，温度控制器具有主控制电路，其输入端通过温度检测电路接有 |
| 4 | CN103809390B | 一种显影喷头 | 2016.08.31 | 本发明涉及在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影处理设备，具体地说是一种显影喷头，包括显影供液管、固定托 |
| 5 | CN103811378B | 一种半导体制造设备的自动移动装置 | 2016.08.03 | 本发明属于半导体行业晶圆涂胶显影生产领域，具体地说是一种半导体制造设备的自动移动装置，可用于TRAC |
| 6 | CN103791053B | 将横向运动转换成为上下运动的装置 | 2016.09.14 | 本发明属于涂胶显影和半导体晶片加工的技术领域，具体为将横向运动转换成为上下运动的装置。包括驱动装置、 |
| 7 | CN104607430B | 一种胶杯自动清洗的方法 | 2016.08.17 | 本发明属于半导体行业光刻工艺中的旋转涂胶技术领域，具体地说是一种胶杯自动清洗的方法。所述方法是在涂胶 |
| 8 | CN101459522A | 一种利用双绞线供电并实现多机数字通讯的装置 | 2009.06.17 | 本发明涉及一种利用双绞线供电并实现多机数字通讯的装置，具有电源电路及通讯电路，其特征在于：双绞线的每 |
| 9 | CN105762094A | 一种自动清洗晶圆时夹持晶圆边缘的装置及其夹持方法 | 2016.07.13 | 本发明涉及用于半导体行业晶圆清洗时的夹持设备，具体地说是一种自动清洗晶圆时夹持晶圆边缘的装置及其夹持 |
| 10 | CN105652790A | 一种微环境控制系统 | 2016.06.08 | 本发明涉及晶圆加工领域，具体地说是一种在晶圆生产时使设备内部气流流向平稳的微环境控制系统，包括风机、 |
| 11 | CN201171043Y | 对中单元 | 2008.12.24 | 本实用新型涉及的是一种在半导体设备中晶圆传送过程中的对中单元，尤其适用于胶膜较厚的晶圆的对中传送，解 |
| 12 | CN103809388B | 显影方法 | 2016.12.21 | 本发明公开了一种在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影方法。该方法中，首先提供显影设备与晶圆，所述显影设 |
| 13 | CN106610437A | 一种利用编码器测量离心机加速度的装置 | 2017.05.03 | 本发明涉及半导体匀胶显影设备离心机主轴电机的加速度测量领域，具体的说是一种利用编码器测量离心机加速度 |
| 14 | CN106610568A | 一种涂胶显影工艺模块及该模块内环境参数的控制方法 | 2017.05.03 | 本发明属于半导体技术领域，具体的说是一种涂胶显影工艺模块及该模块内环境参数的控制方法。包括涂胶显影工 |
| 15 | CN106611732A | 一种缩短机械手晶片传送时间的控制方法 | 2017.05.03 | 本发明涉及一种缩短机械手晶片传送时间的控制方法，包括取片过程：将机械手移动到晶圆承载位置；上位机向机 |
| 16 | CN106583186A | 一种双喷嘴三角形喷胶方法 | 2017.04.26 | 本发明属于半导体集成电路制造工艺中涂胶工艺技术领域，具体地说是一种双喷嘴三角形喷胶方法。该方法包括以 |
| 17 | CN104549858B | 一种用于化学液喷洒的摆臂装置及其喷洒方法 | 2017.04.19 | 本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种用于化学液喷洒的及其喷洒方法，摆臂装置包括摆臂套 |
| 18 | CN106513355A | 一种喷嘴清洗装置及清洗方法 | 2017.03.22 | 本发明属于半导体行业晶片处理技术领域，具体地说是一种喷嘴清洗装置及清洗方法。所述装置包括清洗槽、接液 |
| 19 | CN106469668A | 一种带孔方形基片的夹持传送装置 | 2017.03.01 | 本发明属于半导体行业擦片清洗领域，具体地说是一种带孔方形基片的夹持传送装置，双向滑台安装在机械手安装 |
| 20 | CN104637835B | 一种单电机驱动双摆臂转动的装置 | 2017.02.22 | 本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种单电机驱动双摆臂转动的装置，包括电机、单元固定板 |
| 21 | CN106409717A | 一种晶圆撕金去胶清洗装置 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种晶圆加工设备，具体地说是一种晶圆撕金去胶清洗装置，包括浸泡单元、对中盒站单元、去胶单元 |
| 22 | CN104588276B | 方形基片的气流引导装置 | 2017.02.08 | 本发明属于半导体行业晶圆匀胶技术领域，具体地说是一种方形基片的气流引导装置。包括盖体、叶片、小轴及紧 |
| 23 | CN104971522B | 一种半导体处理系统中流体除气泡装置及其除气泡方法 | 2017.01.25 | 本发明属于半导体处理系统中对流体处理的领域，具体地说是一种半导体处理系统中流体除气泡装置及其除气泡方 |
| 24 | CN106356326A | 一种掩膜板夹持机构 | 2017.01.25 | 本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种掩膜板夹持机构，包括承片台及沿周向均布于承片台上 |
| 25 | CN106354195A | 一种半导体设备用冷却盘装置 | 2017.01.25 | 本发明涉及半导体生产设备，具体地说是一种半导体设备用冷却盘装置。包括第一冷却盘体、第二冷却盘体、半导 |
| 26 | CN106345720A | 一种喷涂用喷嘴自动清洗装置及其清洗方法 | 2017.01.25 | 本发明属于半导体处理系统中对工艺部件处理领域，具体地说是一种喷涂用喷嘴自动清洗装置及其清洗方法，升降 |
| 27 | CN106356316A | 一种工艺单元排废积液检测装置 | 2017.01.25 | 本发明涉及一种工艺单元排废积液检测装置，下罩及隔板分别安装在工艺单元的工作台上，第一隔板位于下罩的内 |
| 28 | CN104549797B | 一种带清洗部件的液体喷洒装置 | 2017.01.18 | 本发明涉及晶片涂胶显影工艺中的晶元表面喷洒液体的装置，具体地说是一种带清洗部件的液体喷洒装置。包括喷 |
| 29 | CN106311529A | 一种液体均匀喷洒处理系统及其处理方法 | 2017.01.11 | 本发明涉及液体处理设备，具体地说是一种液体均匀喷洒处理系统及其处理方法，移动载台沿水平方向往复移动地 |
| 30 | CN106325008A | 一种瀑布式显影喷嘴 | 2017.01.11 | 本发明属于化学药液喷洒工艺技术领域，具体地说是一种瀑布式显影喷嘴。包括分液管道、缓冲槽及瀑布成型柱， |
| 31 | CN106298622A | 一种承载翘曲晶圆的装置及其承载方法 | 2017.01.04 | 本发明涉及半导体行业冷板单元晶圆承载装置，具体地说是一种承载翘曲晶圆的装置及其承载方法，装置包括气缸 |
| 32 | CN106298584A | 一种去胶液恒温系统 | 2017.01.04 | 本发明属于半导体晶圆去胶领域，具体地说是一种去胶液恒温系统，耐腐蚀压力罐与去离子水源相连通，流入耐腐 |
| 33 | CN106292204A | 一种匀胶显影装置 | 2017.01.04 | 本发明涉及一种晶圆加工设备，具体地说是一种全自动的匀胶显影装置，包括热处理单元、机械手、加工单元、对 |
| 34 | CN106298602A | 半导体接口单元的接口密封装置 | 2017.01.04 | 本发明属于半导体行业晶圆涂胶显影生产技术领域，具体地说是一种半导体接口单元的接口密封装置。该接口密封 |
| 35 | CN103809380B | 光刻胶涂胶喷嘴定位拾取装置 | 2016.11.30 | 本发明涉及半导体匀胶显影设备，具体地说是一种光刻胶涂胶喷嘴定位拾取装置。包括光刻胶喷嘴拾取系统、光刻 |
| 36 | CN103811389B | 一种方型晶片对中结构 | 2016.09.07 | 本发明涉及半导体晶片加工过程中晶片精确定位的设备，具体地说是一种方型晶片对中结构，包括夹紧气缸、X轴 |
| 37 | CN104511402B | 一种在晶片表面涂布固体熔融物质的旋涂装置 | 2016.08.17 | 本发明涉及在晶圆表面涂蜡或固体熔融物质的设备，具体地说是一种在晶片表面涂布固体熔融物质的旋涂装置。包 |
| 38 | CN103730334B | 一种适用于方形基板的化学液回收装置 | 2016.08.03 | 本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种适用于方形基板的化学液回收装置，包括固定及旋转方 |
| 39 | CN105772323A | 一种半导体制成厚胶膜涂覆装置及其使用方法 | 2016.07.20 | 本发明涉及半导体加工领域，具体地说是一种半导体制成厚胶膜涂覆装置及其使用方法，包括电缸、喷头、胶杯组 |
| 40 | CN105728243A | 一种光刻胶喷头保湿装置及其保湿方法 | 2016.07.06 | 本发明涉及防止光刻胶凝结阻塞喷头的装置，具体地说是一种光刻胶喷头保湿装置及其保湿方法，装置包括通断回 |
| 41 | CN103730400B | 一种多尺寸晶圆对中装置 | 2016.06.29 | 本发明涉及半导体设备晶圆位置的矫正设备，具体地说是一种多尺寸晶圆对中装置，包括工作台、动力装置、夹持 |
| 42 | CN104556254B | 一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置 | 2016.06.29 | 本发明涉及晶片显影完显影液排出用的设备，具体地说是一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置。包括气源 |
| 43 | CN103811377B | 一种液体涂敷切边装置 | 2016.06.15 | 本发明涉及在晶片上形成涂布液膜并去掉部分保护膜的设备，具体地说是一种液体涂敷切边装置，包括底板、处理 |
| 44 | CN103811384B | 片盒倾斜及归位装置 | 2016.06.01 | 本发明属于半导体设备技术领域，具体地说是一种片盒倾斜及归位装置。包括片盒、片盒底板、片盒底托架及运动 |
| 45 | CN103811397B | 一种基板翻转对中装置 | 2016.06.01 | 本发明属于半导体处理系统中对基板处理的技术领域，具体地说是一种基板翻转对中装置。包括保持部II、保持 |
| 46 | CN105629667A | 一种涂胶机涂覆材料的供应装置 | 2016.06.01 | 本发明涉及半导体技术领域，具体的说涉及一种涂胶机涂覆材料的供应装置。包括截止阀、缓冲罐、涂覆材料承装 |
| 47 | CN103727389B | 一种生产使用过程中化学品自动供给的管路系统 | 2016.05.25 | 本发明涉及生产使用的过程中化学药品的供给系统领域，具体地说是一种生产使用过程中化学品自动供给的管路系 |
| 48 | CN103801478B | 超声波喷嘴排风装置 | 2016.05.11 | 本发明属于半导体设备领域，具体地说是一种超声波喷嘴排风装置。包括排风罩组件及排风管路，其中排风罩组件 |
| 49 | CN105573357A | 一种排风稳压器及其排风稳压方法 | 2016.05.11 | 本发明涉及一种排风稳压器及其排风稳压方法，排风稳压器的主管道串联在厂务端与设备端之间，在主管道上设有 |
| 50 | CN105575847A | 一种提升晶圆受热均匀性的装置 | 2016.05.11 | 本发明涉及进入热盘工艺时对晶圆加热的设备，具体地说是一种提升晶圆受热均匀性的装置，包括升降机构、加热 |
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